キヤノン、5nm対応で消費電力が10分の1になる半導体製造装置を発売

社会
1:2023/10/15(日) 00:59:41


 キヤノン株式会社は、独自の「ナノインプリント」(NIL)技術を採用した半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」を発売した。

(省略)

2023年10月13日 11:53
PC Watch
https://pc.watch.impress.co.jp/docs/news/1538780.html

□関連リンク
ナノインプリントリソグラフィ技術を使用した半導体製造装置を発売 シンプルな仕組みで微細な回路パターン形成を実現し幅広い半導体製造を実現 | キヤノングローバル
https://global.canon/ja/news/2023/20231013.html

ナノインプリントリソグラフィ | キヤノングローバル
https://global.canon/ja/technology/nil-2023.html



続きを読む
タイトルとURLをコピーしました