東北大学や日本製鋼所、三菱ケミカルの研究グループは、次世代半導体の基板材料として期待されている窒化ガリウム(GaN)結晶の新しい製造手法を開発した。
(省略)
全文
https://www.nikkei.com/article/DGXZQOUC02D0A0S2A600C2000000/
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東北大学や日本製鋼所、三菱ケミカルの研究グループは、次世代半導体の基板材料として期待されている窒化ガリウム(GaN)結晶の新しい製造手法を開発した。
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